专利摘要:
本發明提供一種粉體熱處理裝置,當於1,500℃左右或其以上之高溫下對粉體材料進行熱處理之情形時,其可流暢地抽去於加熱階段自粉體材料產生之氣體且亦可阻止冷卻階段之架橋產生,另外其既可確保粉體材料之流動性,且亦可對粉體材料均質地進行熱處理。該粉體熱處理裝置包括:上方裝入部3,其可裝入粉體材料P;導軸7,其可一面將粉體材料向重力方向下方導引一面對其進行熱處理;下方排出部4,其可將粉體排出;上側攪拌構件20,其自導軸之上方朝向下方而插入,用以對導軸內之粉體材料之粉面部分及其周邊進行攪拌;及下側攪拌構件5,其係自導軸之下方朝向上方且相對於上側攪拌元件20隔著距離地插入,用以對導軸內之粉體材料進行攪拌。
公开号:TW201323091A
申请号:TW101129699
申请日:2012-08-16
公开日:2013-06-16
发明作者:Kiyohiro Miyamoto;teruhiko Numata
申请人:Chugai Ro Kogyo Kaisha Ltd;
IPC主号:C01B32-00
专利说明:
粉體熱處理裝置
本發明係關於一種粉體熱處理裝置,當於1,500℃左右或其以上之高溫下對粉體材料進行熱處理之情形時,其可流暢地抽去於加熱階段自粉體材料產生之氣體且亦可阻止冷卻階段之架橋產生,另外其既可確保粉體材料之流動性,且亦可對粉體材料均質地進行熱處理。
習知,作為對粉體進行熱處理之設備,已知有專利文獻1。專利文獻1之「粉體處理用軸爐」之課題在於提供一種粉體處理用軸爐,其可以簡單之構成,防止原料供給料斗內之架橋形成,防止粉體間空氣之大幅減少所導致之粉體之氧化等;該粉體處理用軸爐係以如下方式構成:將下端具有原料供給管而上部具有原料補給閥且於原料供給管上裝配有原料供給閥之密閉式原料供給料斗、裝入室、具備加熱部及冷卻部之爐本體、及具備間歇式排出裝置之排出室;以上述順序連結,使原料供給管位於裝入室內,從而使圓筒狀軸之上端於裝入室內與原料供給管呈相向且下端位於排出室內,以此方式將爐本體上下地貫通配設,從而將原料供給料斗內之原料粉體供給至圓筒狀軸之上端,並藉由排出板間歇地切出處理粉體。
於對粉體進行處理之一般設備中,作為防止粉體之架橋之技術,已知有專利文獻2~6。
專利文獻2之「料斗裝置」之課題在於提供一種料斗裝置,其具備有利於以較小之力對較廣之範圍進行攪拌之架橋防止機構;料斗裝置包括:貯存容器,其收納粉粒狀體,藉由使設置於下部之排出口之開放而通過排出口排出粉粒狀體;及架橋防止機構,其可防止因粉粒狀體而使貯存容器之內部形成架橋。架橋防止機構包括:旋轉軸、及複數攪拌棒,係沿著相對於旋轉軸之中心軸傾斜之1個或多個傾斜面,而自旋轉軸以放射狀延伸。
專利文獻3之「粉粒體儲藏罐裝置」之課題在於提供一種粉粒體儲藏罐裝置,其可防止內部流動現象、架橋現象、或殘留‧固著現象等之產生,藉由使所收納之粉粒體順暢地流出而保證先入先出,且構造簡單,並亦可附設於習知之該種裝置中;並且,粉粒體儲藏罐裝置具備罐本體,其於筒狀體之下部連接有呈倒圓錐形狀之錐形部且於該錐形部之下端頂部設置有排出口;且該粉粒體儲藏罐裝置係於罐本體之內部,藉由支持腳自錐形部隔著特定之間隔而設置有頂部開口之圓錐部而構成。
專利文獻4之「粉體之架橋防止、除去裝置」之課題在於可防止粉體貯存罐內之粉體之架橋之產生或除去粉體貯存罐內所產生之粉體之架橋,並可簡單且容易地設置於既設之粉體貯存罐上;該粉體之架橋防止、除去裝置係分別於上端部具有粉體之投入口、且於下端部具有粉體之排出口,且設置於下部形成為料斗狀之粉體貯存罐上;該粉體之架橋防止、除去裝置係以如下方式構成,其包括:振動體,其配置於貯存在粉體貯存罐內之粉體之層內;振動機,其安裝於振動體上,使振動體振動;及支持體,其將振動體及振動機支持於粉體貯存罐上;且該粉體之架橋防止、除去裝置對粉體貯存罐內之粉體直接賦予振動。
專利文獻5之「粉碎物之儲藏罐」之目的在於提供一種粉碎物之儲藏罐,其可不使所儲藏之粉碎物於排出口之正上方發生架橋化或空洞化而順暢地自排出口排出;該粉碎物之儲藏罐包括:罐本體,其儲藏經過粉碎且被回收之粉碎物;及粉碎物之排出口,其設置於罐本體之下部;且該粉碎物之儲藏罐係形成為具備粉碎物之空洞化及架橋化防止元件之構成,該粉碎物之空洞化及架橋化防止元件使儲藏於上述罐本體內之上述粉碎物之上端與到達上述排出口之部分機械性地於上下方向上移動。
專利文獻6之「儲倉之架橋消除裝置」係於貯存粉體之儲倉本體之下端設置有取出口,於取出口之上部位置設置有可向儲倉本體內噴出高壓空氣之多個高壓空氣噴嘴。其係以如下方式構成:使向其他系統送給高壓空氣之高壓空氣供給管於冷卻器之前面產生分支而形成高壓空氣供給管之分支管,並將分支管連結於高壓空氣噴嘴上;於冷卻器之前面經分流之高溫乾燥之高壓空氣通過分支管自高壓空氣噴嘴噴至儲倉本體,藉此,不會向粉體給予濕氣而可防止儲倉本體中之粉體之架橋現象。由於利用了既存之高壓空氣,故而可謀求設備之簡化及成本之降低。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2001-26413號公報
[專利文獻2]日本專利特開2010-6402號公報
[專利文獻3]日本專利特開2001-278384號公報
[專利文獻4]日本專利特開2003-63590號公報
[專利文獻5]日本專利特開平8-333024號公報
[專利文獻6]實開平5-58692號公報
於對鋰離子二次電池用負極活性物質或生焦、瀝青、樹脂等中所含之碳粉進行石墨化處理而製造碳粉末之裝置中,係於1,500~2,000℃以上之高溫下對粉體材料進行熱處理。於加熱階段,粉體材料中所含之雜質氣化,藉由所產生之氣體而使粉體彼此固著成塊,從而阻礙材料之流動性。又,於冷卻階段,粉體材料彼此凝集而形成架橋,由此亦阻礙材料之流動性。
專利文獻2~6所揭示之攪拌操作對於該等粉體材料之流動性阻礙有效,但對於1,500℃以上之高溫之熱處理,無法直接應用該等專利文獻所揭示之配備於在大致常溫下使用之料斗裝置等上的架橋防止機構等。
本發明係鑒於上述習知之課題而創造者,其目的在於提供一種粉體熱處理裝置,當於1,500℃左右或其以上之高溫下對粉體材料進行熱處理之情形時,其可流暢地抽去於加熱階段自粉體材料產生之氣體且亦可阻止冷卻階段之架橋產生,另外其既可確保粉體材料之流動性,且亦可對粉體材料均質地進行熱處理。
本發明之粉體熱處理裝置之特徵在於包括:上方裝入部,其可裝入粉體材料;熱處理部,其連設於該上方裝入部之下方,可一面將所裝入之粉體材料向重力方向下方導引一面對其進行熱處理;下方排出部,其連設於該熱處理部之下方,可將經過熱處理之粉體排出;上側攪拌構件,其自上述熱處理部之上方朝向下方而插入,用以對該熱處理部內之粉體材料之粉面部分及其周邊進行攪拌;下側攪拌構件,其自上述熱處理部之下方朝向上方且相對於上述上側攪拌元件隔著距離地插入,用以對該熱處理部內之粉體材料進行攪拌;及驅動元件,其可驅動該等上側攪拌構件及下側攪拌構件。
本發明之特徵在於:上述上側攪拌構件為石墨製,且於該上側攪拌構件上連結有金屬製動力傳遞構件,該金屬製動力傳遞構件經由密封材料而可自由旋轉、滑動地插通至上述熱處理部中。
本發明之特徵在於:於上述上側攪拌構件及上述下側攪拌構件中至少任一者之內部內置有加熱裝置。
於本發明之粉體熱處理裝置中,當於1,500℃左右或其以上之高溫下對粉體材料進行熱處理之情形時,可流暢地抽去於加熱階段自粉體材料產生之氣體,且亦可阻止冷卻階段之架橋產生,另外既可確保粉體材料之流動性,且亦可對粉體材料均質地進行熱處理。
以下,參照附圖,對本發明之粉體熱處理裝置之較佳一實施形態詳細地進行說明。於圖1中,表示有本實施形態之粉體熱處理裝置1之側剖視圖。本實施形態之粉體熱處理裝置1係主要包括如下構件而構成:空心筒狀之爐體外殼2,其上方部分於高度方向上筆直且下方部分分支成兩股而形成;上方裝入部3,其配置於爐體外殼2之上方且側方,可向爐體外殼2內部裝入粉體材料P;及下方排出部4,其設置於爐體外殼2之下方部分,可自爐體外殼2內部排出經過熱處理之粉體P。
粉體材料P例如為鋰離子二次電池用負極活性物質或生焦、瀝青、樹脂等,將其等加熱至1,500~2,000℃以上之高溫而進行石墨化處理,藉此可獲得碳粉末。當然,亦可為其他粉體材料。
爐體外殼2構成對粉末材料P進行熱處理之熱處理部。熱處理部包括加熱帶H及冷卻帶C。加熱帶H裝配於爐體外殼2之上方部分,而冷卻帶C裝配於爐體外殼2藉由分支成兩股而向傾斜下方延出之一下方部分。藉由分支成兩股而向爐體外殼2之高度方向下方延出之另一下方部分則構成用以配備下述下側攪拌構件5之插通部6。下方排出部4設置於冷卻帶C側。
於爐體外殼2之內部,導軸7與該爐體外殼2之間隔著間隙而設置。導軸7係由石墨等耐熱性優異之素材所形成。導軸7以與將下方部分分支成兩股之爐體外殼2大致相同之形態形成為空心筒體狀,且係自加熱帶H跨及冷卻帶C及插通部6而設置。
於加熱帶H,在爐體外殼2與導軸7之間,以包圍導軸7之配置而設置有加熱器8,並且在加熱器8與爐體外殼2之間,填充有隔熱材料9。加熱器8可對導軸7進行加熱,藉此使導軸7內部升溫。
另一方面,於冷卻帶C,在爐體外殼2與導軸7之間之間隙中,自外部循環供給有冷卻水W,藉此,構成用以使導軸7內部冷卻之水冷套管10。
於爐體外殼2之上部,設置有覆蓋導軸7之上端開口部7a且具有氣密性之空心盒狀的上部外殼11。於上部外殼11上,連接有可向導軸7內裝入粉體材料P之上方裝入部3。
上方裝入部3包括:供給料斗12,其為了將需進行熱處理之粉體材料P供給至導軸7之加熱帶H而暫時地貯存粉體材料P;開閉閥13,其設置於供給料斗12之下端開口處,進行開閉動作而使粉體材料P自供給料斗12中釋出;及射料器14,其一端連接於開閉閥13並且另一端插入至上部外殼11內部,可使自開閉閥13釋出之粉體材料P向導軸7內流下;且,射料器14連接於上部外殼11,藉此,使上方裝入部3之下方連設有熱處理部之加熱帶H。
自上方裝入部3裝入至導軸7內之粉體材料P係自加熱帶H跨及冷卻帶C及插通部6而充滿。於爐體外殼2之冷卻帶C下端,設置有下方排出部4。
下方排出部4包括:轉盤15,其具有與導軸7之下端開口部7b連通之切出孔15a;水冷式盤套16,其安裝支持於爐體外殼2上,可導引轉盤15於其內部滑動旋轉,並且避開下端開口部7b位置而形成有連通於切出孔15a之排出端口16a;及旋轉馬達17,其設置於盤套16上,可旋轉驅動轉盤15;且,盤套16連接於爐體外殼2,藉此,使熱處理部之冷卻帶C之下方連設有下方排出部4。
於冷卻帶C經過冷卻之粉體P朝向與導軸7之下端開口部7b連通的轉盤15之切出孔15a流入,所流入之粉體P藉由旋轉馬達17所驅動之轉盤15之旋轉動作而自導軸7切出,並於盤套16內朝向排出端口16a移送,其後,藉由切出孔15a連通於排出端口16a,而使粉體P自盤套16內向外方排出。
於自加熱帶H跨及冷卻帶C及插通部6而充滿粉體材料P之狀態下,一面藉由轉盤15自下方排出部4排出粉體P,一面藉由開閉閥13自供給料斗12供給粉體材料P,藉此,導軸7將粉體材料P向重力方向下方導引,由此粉體材料P於爐體外殼2內部連續地受到熱處理。
藉由粉體材料P之加熱處理,於導軸7內會產生氣體。在位於導軸7之上方且與其上端開口部7a連通之上部外殼11上,連接有用以排出氣體之排氣管18。於排氣管18上,為了控制導軸7內部之壓力,而設置有開度調節自由之調節閥19。
在對應於熱處理部之加熱帶H位置之導軸7內部,自上方朝向下方而插入有上側攪拌構件20,其係用以自導軸7內面跨及導軸7中央的範圍內對充滿於導軸7內之粉體材料P之粉面部分(上部表面部分)、及包括該粉面部分至深度方向下方在內之周邊進行攪拌、使其流動。
於本實施形態中,上側攪拌構件20為前端尖細之桿狀,於其周面上,沿圓周方向隔著間隔且於長度方向上呈多段地設置有攪拌用之攪拌件20a。上側攪拌構件20係以耐熱性優異之石墨製而形成。於上側攪拌構件20中,在與插入至高溫之導軸7內之前端相反之側、且位於溫度較低之上部外殼11內部之基端,連結有形成為桿狀之金屬製動力傳遞構件21。
於上部外殼11上設置有上部台座22,於搭載在上部台座22之上部驅動元件23之輸出軸,經由動力傳遞構件21而連結有上側攪拌構件20。於上部外殼11,形成有可供動力傳遞構件21插通之上部貫通孔24。藉此,上側攪拌構件20係自上部台座22側向導軸7內方插入而設置。
上部驅動元件23具備螺釘機構等,自其輸出軸,輸出正反往返旋轉運動及上下方向往返直線運動,藉此,使上側攪拌構件20於導軸7內進行正反旋轉動作,同時進行上下方向往返動作。
如圖2所示,於上部貫通孔24中設置有密封材料25,其既可將上部外殼11之氣密性保持得較高,亦可供金屬製之動力傳遞構件21旋轉滑動自由且上下方向滑動自由地插通。
異種材料即石墨製之上側攪拌構件20與金屬製之動力傳遞構件21之連接係例如圖2所示,為了確保直線運動之傳遞,而於形成在動力傳遞構件21之端部凸緣21a外周之外螺紋部21b(圖中,以影線表示出端部凸緣21a之剖面),螺合母螺紋部26a,該母螺紋部26a係形成於卡合在上側攪拌構件20之端部凸緣20b的耦合構件26之內周,而且又為了確保旋轉運動之傳遞,而避開該等上側攪拌構件20及動力傳遞構件21之軸心,將鍵27嵌合於形成在該等端部凸緣20b、21a之鍵槽中。
在對應於熱處理部之加熱帶H位置之導軸7內部,自下方朝向上方地插入有下側攪拌構件5,其係用以自導軸7內面跨及導軸7之中央地對充滿於導軸7內之粉體材料P進行攪拌、使其流動。下側攪拌構件5係相對於上側攪拌構件20,於導軸7之高度方向上隔著距離而配置。從而,於導軸7內,設定有不存在攪拌構件5、20之區域Z。
下側攪拌構件5與上側攪拌構件20同樣地為前端尖細之桿狀,於其周面上,沿圓周方向隔著間隔且於長度方向上呈多段地設置有攪拌用之攪拌件5a。下側攪拌構件5亦係以耐熱性優異之石墨製而形成。
於爐體外殼2之插通部6正下方安裝有下部台座28,於搭載在下部台座28之下部驅動元件29之輸出軸,直接連結有下側攪拌構件5。於插通部6下端,形成有可供下側攪拌構件5插通之下部貫通孔30。藉此,下側攪拌構件5自下部台座28側向導軸7內方插入而設置。
下部驅動元件29係與上部驅動元件23同樣,自輸出軸,輸出正反往返旋轉運動及上下方向往返直線運動,藉此使下側攪拌構件5於導軸7內進行正反旋轉動作,同時進行上下方向往返動作。
於下部貫通孔30中,與上部貫通孔24同樣地,設置有密封材料31,其既可保持氣密性,亦可供下側攪拌構件5旋轉滑動自由且上下方向滑動自由地插通。相對於下側攪拌構件5,亦與上側攪拌構件20同樣地,連結有金屬製動力傳遞構件,且亦可使該動力傳遞構件相對於密封材料31插通,而提昇氣密性。
於導軸7,為了控制粉體熱處理裝置1之運轉,而設置有可檢測所裝入之粉體材料P之粉面位置之雷射式位置感測器32、或用以檢測內部溫度之溫度感測器33。位置感測器32係利用玻璃等透明之素材相對於高溫之熱處理部H隔絕而安裝。
其次,對本實施形態之粉體熱處理裝置1之作用進行說明。於自加熱帶H跨及冷卻帶C及插通部6的範圍內而充滿粉體材料P之運轉狀態時,與自下方排出部4排出經過熱處理之粉體P之動作相應地,自上方裝入部3供給粉體材料P,藉此,利用導軸7將粉體材料P向重力方向下方導引,從而連續地進行粉體材料P之熱處理。
運轉控制下之粉體材料P之裝入時序係以如下方式控制開閉閥13:一面與轉盤15所進行之排出操作對應,一面於例如粉體材料P之溫度為1500℃之高度位置處,設定位置感測器32所要測定之檢測點,若藉由位置感測器32未檢測到粉體材料P,則重新裝入粉體材料P,或者若藉由溫度感測器33所檢測到之粉面位置之溫度例如達到1500℃,則重新裝入粉體材料P。
自上方裝入部3新裝入至加熱部H中之粉體材料P,係藉由射料器14而堆積在已充滿於導軸7內部的粉體材料P之上,從而形成粉面部分。於剛裝入之後之粉體材料P中含有雜質,且於藉由加熱器8對粉體材料P進行加熱而使其依序升溫之過程中,雜質會自滯留於粉面部分及包括該粉面部分之深度方向下方在內之周邊的粉體材料P中氣體化。
可進行正反旋轉動作及上下方向往返動作之上側攪拌構件20,係對粉面部分及其周邊之粉體材料P進行攪拌使其流動化,故而可使所產生之氣體不會滯留於粉體材料P彼此之間,而自流動之粉體材料P彼此之間又沿著上側攪拌構件20向粉面上方流暢地釋出。
又,藉由上側攪拌構件20之攪拌作用,無論為該上側攪拌構件20周圍,抑或為導軸7內面附近,均可對粉體材料P均質地進行加熱處理,同時可使氣體均一地釋出。從而,可藉由具有耐熱性之石墨製之上側攪拌構件20,確實地進行自粉面部分及其周邊部分之粉體材料P之脫氣處理。釋放出之氣體自排氣管18排出。
進而,可藉由上側攪拌構件20之正反旋轉動作及上下方向往返動作,而挖出埋設於遠離導軸7內面之粉面部分之粉體材料P使其暴露於高溫之內部氣體環境下。藉此,即便與有利於加熱之導軸7內面附近之粉體材料P相比,亦可毫不遜色地對上側攪拌構件20周圍之粉體材料P進行加熱處理。
藉由下方排出部4之排出操作而向重力方向下方移動之粉體材料P若到達上側攪拌構件20之下方,則藉由加熱器8而穩定地受到加熱,且適當地得到石墨化處理。
粉體材料P若進而向下方移動,則與上側攪拌構件20同樣地,受到石墨製之下側攪拌構件5之攪拌作用,藉此,粉體材料於導軸7內之流動性得到提昇。由於以此方式可確保較高之流動性,故而可防止粉體材料P部分地驟冷,並且可使熱處理速度固定化,進而可對下側攪拌構件5周圍之粉體材料P與導軸7內面附近之粉體材料P均質地進行熱處理。
於加熱帶H經過加熱處理之粉體材料P其後向具備冷卻套管10之冷卻帶C移動,於到達下方排出部4之期間受到冷卻處理。經過冷卻處理之粉體P自下方排出部4排出。因於移動至冷卻帶C之前,藉由下側攪拌構件5提昇了粉體材料P之流動性從而防止了部分之驟冷,故可防止於冷卻帶C產生架橋。
詳細而言如圖5(a)所示,若假設使用將上側攪拌構件20與下側攪拌構件5連結而形成為一體之單一之攪拌構件G之情形,則藉由該攪拌構件G之旋轉及上下移動,攪拌構件G周圍之粉體材料P會沿著攪拌構件G快速地流下,從而於粉體上表面S產生凹陷D。即,於導軸7之內面附近與攪拌構件G之周圍附近,粉體材料P之移動速度V、v(V>v)不同,故而無法適當地實施必要之熱處理。
與此相對,於本實施形態中,如圖5(b)所示,於將上述單一之攪拌構件G切斷之形態下,相對於上側攪拌構件20隔著距離而設置下側攪拌構件5,藉此,可於導軸7內部形成不存在攪拌構件5、20之區域即粉體材料P之滯留區域Z。藉此,可防止粉體材料P於上側攪拌構件20附近流下,因此可使粉體材料P於上部產生循環移動,從而對粉體材料P充分地進行加熱處理及氣體釋放。且同時,於下側攪拌構件5之附近,亦可使粉體材料P產生循環移動。
又,如圖1所示,導軸7內部之溫度分佈係,導軸7內之上端開口部7a側之加熱帶H上端(圖中,以7U表示)的溫度由於新裝入之低溫之粉體材料P或來自於上部外殼11之熱影響而變得比較低,並且導軸7內之與冷卻帶C相連之加熱帶H下端(圖中,以7L表示)的溫度亦受到來自冷卻帶C之導熱等熱影響而變得比較低,與此相對,於導軸7中央部(圖中,以7C表示)形成最高溫度。
由於將攪拌構件設定成上側攪拌構件20及下側攪拌構件5,且於其等之間設定有形成最高溫度之滯留區域Z,故而可於該滯留區域Z對粉體材料P充分地進行加熱,同時可防止攪拌構件5、20暴露於過高之溫度下,從而可確保攪拌構件5、20之耐久性。
又,如上所述,於導軸7之下部,亦可藉由下側攪拌構件5使粉體材料P產生循環移動,故而可避免粉體材料P剛冷卻後容易產生架橋之狀況。
如上文所述,藉由上側攪拌構件20及下側攪拌構件5,可確保脫氣處理及粉體材料P之均一加熱,且既可促進氣體釋放,亦可避免架橋,故而可實現目前為止較困難之導軸7之口徑之大徑化,可提高生產性。
因於上側攪拌構件20連結有金屬製動力傳遞構件21,且將該動力傳遞構件21經由密封材料25可自由旋轉、滑動地插通至上部外殼11中,故可對爐體外殼2內部之熱處理部確保較高之氣密性。
意欲以專利文獻1作為前提技術,而應用專利文獻2~6之技術,該專利文獻2~6之技術係於圓筒狀軸之內部應用對粉體進行處理之一般設備並藉由攪拌作用防止粉體之架橋;但如上所述,對於1,500℃以上之高溫之熱處理,無法直接應用該等專利文獻所揭示之配備於在大致常溫下使用之料斗裝置等上之架橋防止機構等。此外,於本實施形態之粉體熱處理裝置1中,不單進行攪拌操作,還採用如下構成:具備上側攪拌構件20與下側攪拌構件5,並使該等攪拌構件5、20彼此隔著距離而配置,藉此可獲得如下藉由將該等專利文獻簡單組合而無法獲得的多樣且有利之作用效果:可防止粉體材料P快速地流下而使粉體材料P滯留於攪拌構件5、20間,且可使粉體材料P於導軸7之上部及下部產生循環流動,促進氣體釋放或加熱、均熱,並可避免架橋,從而可提昇熱處理性能,或將導軸7大口徑化而提高生產性等。
於圖3及圖4中,表示有攪拌構件5、20之變形例。於上述實施形態中,係設置攪拌件5a、20a用於攪拌,但於考慮到表面積較大之攪拌件5a、20a會受到熱影響而變形或損傷之情形時,亦可設置多個軸體34來取代攪拌件5a、20a,該等軸體34係於攪拌構件5、20之徑方向上貫通攪拌構件5、20,從而藉由該等軸體34進行攪拌。當然,此種變形例亦可取得與上述實施形態相同之作用效果。
又,若如圖6所示,於下側攪拌構件5之內部內置有加熱裝置35,且使其經由可吸收該下部攪拌構件5之旋轉及上下移動的軟線(flexible cord)36而與外部電源37連接,則藉由該加熱裝置35,對於導軸7之下部,可確保升溫時間之縮短、及粉體材料P之熱歷程之改善。當然,若於上側攪拌構件20中亦同樣地內置有加熱裝置35,則對於導軸7之上部亦可確保相同之作用效果。
1‧‧‧粉體熱處理裝置
2‧‧‧爐體外殼
3‧‧‧上方裝入部
4‧‧‧下方排出部
5‧‧‧下側攪拌構件
5a‧‧‧攪拌件
6‧‧‧插通部
7‧‧‧導軸
7a‧‧‧導軸之上端開口部
7b‧‧‧導軸之下端開口部
8‧‧‧加熱器
9‧‧‧隔熱材料
10‧‧‧水冷套管
11‧‧‧上部外殼
12‧‧‧供給料斗
13‧‧‧開閉閥
14‧‧‧射料器
15‧‧‧轉盤
15a‧‧‧切出孔
16‧‧‧盤套
16a‧‧‧排出端口
17‧‧‧旋轉馬達
18‧‧‧排氣管
19‧‧‧調節閥
20‧‧‧上側攪拌構件
20a‧‧‧攪拌件
20b‧‧‧上側攪拌構件之端部凸緣
21‧‧‧動力傳遞構件
21a‧‧‧動力傳遞構件之端部凸緣
21b‧‧‧外螺紋部
22‧‧‧上部台座
23‧‧‧上部驅動元件
24‧‧‧上部貫通孔
25‧‧‧密封材料
26‧‧‧耦合構件
26a‧‧‧母螺紋部
27‧‧‧鍵
28‧‧‧下部台座
29‧‧‧下部驅動元件
30‧‧‧下部貫通孔
31‧‧‧密封材料
32‧‧‧位置感測器
33‧‧‧溫度感測器
34‧‧‧軸體
35‧‧‧加熱裝置
36‧‧‧軟線
37‧‧‧外部電源
C‧‧‧冷卻帶
D‧‧‧凹陷
G‧‧‧單一之攪拌構件
H‧‧‧加熱帶
P‧‧‧粉體材料(粉體)
S‧‧‧粉體上表面
V‧‧‧單一之攪拌構件之周圍附近的粉體材料之移動速度
v‧‧‧導軸之內面附近之粉體材料之移動速度
W‧‧‧冷卻水
Z‧‧‧滯留區域
7U‧‧‧導軸內之上端開口部側之加熱帶上端
7L‧‧‧導軸內之與冷卻帶相連之加熱帶下端
7C‧‧‧導軸中央部
圖1係表示本發明之粉體熱處理裝置之較佳一實施形態之側剖視圖。
圖2係圖1中之A部放大剖視圖。
圖3係表示圖1所示之粉體熱處理裝置中使用之上側及下側攪拌構件之變形例的主要部分放大側視圖。
圖4係圖3中B-B線箭視剖視圖。
圖5係用以說明圖1所示之粉體熱處理裝置中之粉體材料之流動狀態之說明圖。
圖6係表示圖1之粉體熱處理裝置之下側攪拌構件中內置有加熱裝置之狀況之概略構成圖。
1‧‧‧粉體熱處理裝置
2‧‧‧爐體外殼
3‧‧‧上方裝入部
4‧‧‧下方排出部
5‧‧‧下側攪拌構件
5a‧‧‧攪拌件
6‧‧‧插通部
7‧‧‧導軸
7a‧‧‧導軸之上端開口部
7b‧‧‧導軸之下端開口部
8‧‧‧加熱器
9‧‧‧隔熱材料
10‧‧‧水冷套管
11‧‧‧上部外殼
12‧‧‧供給料斗
13‧‧‧開閉閥
14‧‧‧射料器
15‧‧‧轉盤
15a‧‧‧切出孔
16‧‧‧盤套
16a‧‧‧排出端口
17‧‧‧旋轉馬達
18‧‧‧排氣管
19‧‧‧調節閥
20‧‧‧上側攪拌構件
20a‧‧‧攪拌件
21‧‧‧動力傳遞構件
22‧‧‧上部台座
23‧‧‧上部驅動元件
24‧‧‧上部貫通孔
25‧‧‧密封材料
28‧‧‧下部台座
29‧‧‧下部驅動元件
30‧‧‧下部貫通孔
31‧‧‧密封材料
32‧‧‧位置感測器
33‧‧‧溫度感測器
A‧‧‧將於圖2中放大之部分
C‧‧‧冷卻帶
H‧‧‧加熱帶
P‧‧‧粉體材料(粉體)
W‧‧‧冷卻水
Z‧‧‧滯留區域
7U‧‧‧導軸內之上端開口部側之加熱帶上端
7L‧‧‧導軸內之與冷卻帶相連之加熱帶下端
7C‧‧‧導軸中央部
权利要求:
Claims (3)
[1] 一種粉體熱處理裝置,其特徵在於包括:上方裝入部,其可裝入粉體材料;熱處理部,其連設於該上方裝入部之下方,可一面將所裝入之粉體材料向重力方向下方導引一面對其進行熱處理;下方排出部,其連設於該熱處理部之下方,可將經過熱處理之粉體排出;上側攪拌構件,其自上述熱處理部之上方朝向下方而插入,用以對該熱處理部內之粉體材料之粉面部分及其周邊進行攪拌;下側攪拌構件,其自上述熱處理部之下方朝向上方且相對於上述上側攪拌元件隔著距離地插入,用以對該熱處理部內之粉體材料進行攪拌;及驅動元件,其可驅動該等上側攪拌構件及下側攪拌構件。
[2] 如申請專利範圍第1項之粉體熱處理裝置,其中,上述上側攪拌構件為石墨製,且於該上側攪拌構件上連結有金屬製動力傳遞構件,該金屬製動力傳遞構件經由密封材料而可自由旋轉、滑動地插通至上述熱處理部中。
[3] 如申請專利範圍第1或2項之粉體熱處理裝置,其中,於上述上側攪拌構件及上述下側攪拌構件中至少任一者之內部,內置有加熱裝置。
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